Intel podczas specjalnej konferencji prasowej w Pekinie zaprezentował swoje nowe pomysły, plany na dalszą przyszłość we wdrażaniu nowych procesów litograficznych.

Jak podaje firma, obecny 10-nanometrowy proces litograficzny odniósł satysfakcjonujący sukces. Dlatego do końca bieżącego roku rozpocznie się więc masowa produkcja procesorów w tym procesie. Technologia będzie fundamentem dla procesorów Ice Lake przeznaczonych dla laptopów oraz serwerów, Snow Ride stworzonych dla 5G i układów Lakefield.

 

Plany litograficzne Intela

Intel twierdzi, że to nie wszystko, bowiem postanowiła pójść o krok naprzód. Chwali się swoimi planami rozwoju procesów litograficznych. Technologia 10-nanometrowa jest na zadowalającym poziomie, dlatego następnym krokiem będzie wdrożenie litografii 7-nanometrowej, 5-nanometrowej, a nawet 3-nanometrowej.

Niestety Intel nie podał konkretnych informacji oraz terminu wprowadzenia tych procesorów do produkcji. Kolejnym aspektem jest nieuniknione wprowadzenie wielu usprawnień w technologi litograficznym oraz samym procesie produkcji układów tego typu. Jednym zdaniem, podane plany Intela są bardzo odległe. Nie mamy zatem podstaw twierdzić, że w przeciągu roku lub dwóch wdrożenie chociażby litografii  5 nm stanie się faktem.